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晶圆研磨/减薄胶带PO基膜的关键性能-洁净度与纯度
(1)无污染:
基膜生产需在无尘环境中进行,避免杂质(如金属离子、灰尘)影响晶圆良率。
(2)低析出物:
高温或UV照射时,基膜不应析出低分子量物质污染晶圆。