欢迎进入艾米新材官方网站!

PO基膜在晶圆研磨/减薄胶带的作用之七:洁净度与纯度

晶圆研磨/减薄胶带PO基膜的关键性能-洁净度与纯度


1无污染:

基膜生产需在无尘环境中进行,避免杂质(如金属离子、灰尘)影响晶圆良率。


2低析出物:

高温或UV照射时,基膜不应析出低分子量物质污染晶圆。



分享到: