艾米新材亮相2026（第6届）辐射固化胶粘剂及减粘胶技术创新论坛

2026年3月23日，艾米新材（东莞）有限公司参加了在上海举办的第6届辐射固化胶粘剂及减粘胶技术创新论坛。此次论坛由粘接资讯、新材料产业联盟等机构主办，旨在聚焦辐射固化胶及减粘技术的最新研究与应用，汇聚了业内知名企业、高校和科研院所的力量。在本次论坛中，艾米新材不仅与上下游行业伙伴进行了深入的技术交..

艾米新材亮相艾邦智造第十届手机产业创新技术论坛

2025年12月19日，艾邦智造主办的第十届手机产业创新技术论坛在深圳成功举办。艾米新材项目负责人王先生从基材膜的角度，带来“EPPE（PO）基膜——从基材端如何保证OMR的高良率”的专题演讲，分享了艾米新材关于OMR真空转印EPPE（PO）基膜的研发历程、研究成果、应用案例及艾米新材的基膜解决方案..

什么是半导体胶带PO基膜？

半导体胶带PO基膜，全称为聚烯烃基膜（PolyolefinBaseFilm），是半导体制造全流程中多种功能性胶带的底层骨架材料。从晶圆背面的研磨减薄（BGTape），到晶圆正面电路保护下的切割划片（DicingTape），再到封装完成后的芯片分离切单（PKGSawTape）——几乎每一道涉及"固定-..

PO基膜的市场格局、技术挑战与国产化进程

PO基膜作为半导体切割胶带的核心原材料，其市场格局长期以来呈现高度集中的态势。日本企业在PO基膜领域深耕数十年，三井化学、东丽等化工巨头凭借从原料配方到流延制膜再到表面处理的完整技术链条，几乎垄断了全球高端半导体级PO基膜市场。国产PO基膜起步较晚，面临的技术挑战主要体现在以下几个方面：一是厚度公差..

PO基膜在激光切割中的应用特点

激光切割——包括全激光切割（FullLaserCut）和激光隐形切割（StealthDicing）——正在半导体切割领域快速普及，这对胶带基膜材料提出了一些全新的要求。首先是对激光波长的透过性：在激光隐形切割中，红外激光需要穿透胶带基材聚焦到晶圆内部形成改性层，因此PO基膜必须对1064nm或134..

PO基膜的洁净度与低析出性—无尘车间的守护者

半导体制造对洁净度的要求是极为苛刻的——晶圆切割、封装切割等后道工序通常在万级甚至千级洁净室（Class1000/Class100）中进行，任何微小颗粒的污染都可能造成芯片短路、键合失效或封装漏气。PO基膜作为直接接触晶圆和芯片表面的材料，其洁净度水平直接影响产品良率。洁净度的第一个维度是"不掉屑"..

PO基膜的扩张性能—切割后芯片分离的关键

在晶圆切割或封装切割完成后，胶带上密布着已分离但间距极小的芯片（通常间距仅几十微米），无法直接用吸嘴拾取。这时需要借助一道称为"扩张"（Expanding）的工序——将胶带的外沿绷紧固定在扩张环上，通过机械装置均匀向外拉伸，使芯片间距由几十微米扩大到数百微米，为后续的视觉识别和自动取晶创造足够的操作..

PO基膜在UV减粘胶带中的结构与功能

一张完整的UV减粘型切割胶带由三层结构组成：最底层是离型膜（ReleaseLiner，通常为硅油处理过的PET膜），中间层是UV减粘胶层（UV-sensitiveAdhesiveLayer），最上层是PO基膜（BaseFilm）。PO基膜在这一结构中承载着多重关键功能。第一是支撑骨架功能——它为整个..

PO基膜与PVC基膜的对比

在半导体切割胶带的发展历程中，基材经历了从PVC（聚氯乙烯）到PO（聚烯烃）的迭代升级，这一替代趋势背后有着深刻的技术逻辑。PVC基膜作为早期切割胶带（即俗称的"蓝膜"）的主流基材，其优势在于成本低廉、加工性好、着色方便（可制成易于识别的蓝色）。然而PVC基膜存在几个根本性缺陷：第一是增塑剂析出问题..