PO基膜在晶圆研磨/减薄胶带的作用之二：粘接与剥离性能

晶圆研磨/减薄胶带PO基膜的关键性能-粘接与剥离性能：

（1）临时粘接性：

PO基膜需与压敏胶层（如丙烯酸胶）良好结合，确保晶圆在研磨时牢固固定，但后续可通过紫外线（UV）照射或加热降低粘性，便于剥离（如UV胶带或热释放胶带）。

（2）低残留剥离：

剥离后胶层需无残留，避免污染晶圆正面电路。PO基膜的表面能需与胶层匹配，确保剥离界面清洁。