PO基膜在晶圆研磨/减薄胶带的作用
一、晶圆研磨/减薄胶带是什么:晶圆研磨是半导体制造中的关键工艺,用于将晶圆背面研磨至所需厚度,以满足芯片封装或器件性能需求。而减薄胶带是这一过程中必不可少的辅助材料,主要用于保护晶圆正面电路并固定晶圆。二、晶圆研磨/减薄胶带PO基膜的关键性能-机械性能:1.高抗拉强度与韧性:研磨过程中基膜需承受机械..
PO基膜在晶圆研磨/减薄胶带的作用之三:热性能
2025-07-22
晶圆研磨/减薄胶带PO基膜的关键性能-热性能(1)耐温性:研磨可能产生局部高温,PO基膜需耐受80-120℃温度而不软化或变形。若涉及热释放胶带,需能在特定温度(如150℃)下快速失去粘性。(2)热收缩率低:高温环境下(如UV固化或烘烤),基膜热收缩率需极低(通常<1%),防止晶圆翘曲或应力损..
PO基膜在晶圆研磨/减薄胶带的作用之二:粘接与剥离性能
2025-07-21
晶圆研磨/减薄胶带PO基膜的关键性能-粘接与剥离性能:(1)临时粘接性:PO基膜需与压敏胶层(如丙烯酸胶)良好结合,确保晶圆在研磨时牢固固定,但后续可通过紫外线(UV)照射或加热降低粘性,便于剥离(如UV胶带或热释放胶带)。(2)低残留剥离:剥离后胶层需无残留,避免污染晶圆正面电路。PO基膜的表面能..
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2025-07
PO基膜在晶圆研磨/减薄胶带的作用
一、晶圆研磨/减薄胶带是什么:晶圆研磨是半导体制造中的关键工艺,用于将晶圆背面研磨至所需厚度,以满足芯片封装或器件性能需求。而减薄胶带是这一过程中必不可少的辅助材料,主要用于保护晶圆正面电路并固定晶圆。二、晶圆研磨/减薄胶带PO基膜的关键性能-机械性能:1.高抗拉强度与韧性:研磨过程中基膜需承受机械..
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2025-07
PO基膜-半导体制造的"隐形护盾"
在半导体制造的精密世界里,从晶圆的减薄研磨到芯片的精准切割,再到封装测试的临时固定,PO基膜虽不直接出现在最终芯片产品中,却贯穿全制程,且直接影响芯片良率与生产效率,是半导体制造的"隐形护盾"。
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2025-07
什么是UV减粘PO基膜
一、什么是UV减粘胶带UV减粘膜通常由离型膜、丙烯酸粘合剂和PO基膜三部分组成,PO基膜在UV减粘膜的结构中作为支撑层,提供机械强度和化学稳定性。二、UV减粘胶带的基材-PO基膜UV减粘PO基膜是一种专门用于制造UV减粘胶带(又称UV失粘胶带)的核心基材,主要由聚烯烃(PO)材料制成,艾米新材经过流..
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2025-07
什么是PO基膜
PO,也叫聚烯烃,英文全称Polyolefin,是一种由烯烃单体通过聚合反应制成的高分子材料。艾米新材的PO基膜采用流延法,是一种通过改性工艺制成的高性能薄膜。PO基膜可以应用于晶圆研磨胶带、晶圆切割胶带、芯片封装切割胶带、半导体分立器件及LED灯珠切割胶带、滤光片切割胶带,玻璃基板TGV/TSV封..