PO基膜在MINI LED切割胶带的作用之二
PO基膜在MINILED切割胶带的作用之二--无残留、易剥离:u基膜表面经过特殊处理(如电晕、涂层),确保胶带在剥离时能轻松与MINILED芯片或基板分离,减少残胶风险。u基膜响应紫外线(UV)照射,使胶带表面粘性层在UV照射下迅速降低,实现可控减粘。
PO基膜在MINI LED切割胶带的作用之四
2025-08-18
PO基膜在MINILED切割胶带的作用之四--表面特性:(1)高平整度:u基膜表面需高度平整(纳米级粗糙度),确保胶层涂布均匀,避免切割时因局部粘附力不均导致芯片飞溅或边缘崩裂。(2)抗静电性能:u需通过添加导电碳黑、碳纳米管或高分子抗静电剂,防止静电吸附粉尘,避免芯片击穿,保障检测精度。
PO基膜在MINI LED切割胶带的作用之三
2025-08-15
PO基膜在MINILED切割胶带的作用之三--耐温性:uMINILED切割常采用激光工艺,基膜具备耐高温性能,避免熔化或收缩导致切割偏移。u在高温制程中,基膜短期耐受不收缩,且冷却后无翘曲。
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2025-08
PO基膜在MINI LED切割胶带的作用之二
PO基膜在MINILED切割胶带的作用之二--无残留、易剥离:u基膜表面经过特殊处理(如电晕、涂层),确保胶带在剥离时能轻松与MINILED芯片或基板分离,减少残胶风险。u基膜响应紫外线(UV)照射,使胶带表面粘性层在UV照射下迅速降低,实现可控减粘。
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2025-08
艾米新材将于9月10日-12日参加SEMI-e深圳国际半导体展
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2025-08
PO基膜在MINI LED切割胶带的作用之一
PO基膜在MINILED切割胶带的作用之一--机械性能:(1)稳定性及柔韧贴合:u基膜在激光或切割过程中保持胶带形状稳定,防止撕裂或变形,确保切割精度。uMINILED基板(如玻璃、硅片)可能超薄或易碎,基膜的柔韧性使其能紧密贴合曲面或脆性表面,减少应力损伤。(2)厚度要求:u基膜厚度偏差需控制在±..
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2025-08
MINI LED切割胶带的意义
MINILED切割胶带是高粘性、低残留、可控制剥离力的特殊材料,用于Mini/MicroLED芯片制程中的一种关键功能胶带,在晶圆切割、扩膜的过程中固定芯片,防止飞散或破损,聚烯烃(PO)基膜在后续工序中能实现无残胶、无应力剥离,确保芯片完整性与良率。
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2025-08
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之八
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之八-无残留剥离:Ø剥离后胶层需完全脱离芯片背面,避免残留影响芯片粘接或键合。ØPO基膜表面需与胶层兼容(如通过电晕处理提升附着力)。
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2025-08
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之七
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之七-洁净度与纯度:(1)无颗粒污染:基膜生产需在Class1000以下无尘环境,避免杂质划伤晶圆。(2)低析出物:高温或UV照射时,基膜不得析出增塑剂等小分子污染物。
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2025-08
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之六
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之六-化学稳定性:(1)耐化学腐蚀:Ø抵抗切割冷却液(如水、乙醇)的侵蚀,防止基膜溶胀或胶层失效。(2)低吸湿性:Ø吸湿率<0.1%,避免水分影响胶带粘性或导致芯片氧化。
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2025-08
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之五
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之五-光学性能(针对UV胶带):(1)高UV透光率:ØPO基膜需对紫外线(如365nm波长)透光率>90%,确保UV光充分触发胶层固化反应。(2)低紫外线散射:Ø基膜内部需无气泡或杂质,避免UV光散射导致胶层固化不均。
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2025-08
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之四
PO基膜在晶圆划切/切割胶带的作用之四--表面特性:(1)高平整度与光滑度:Ø表面粗糙度(Ra)需<0.1μm,避免凹凸影响胶层均匀性,导致切割深度不均。(2)抗静电性能:Ø需通过添加抗静电剂或涂层(如碳纳米管)防止静电吸附粉尘,避免污染芯片。